Draft – żywica do szybkiego prototypowania od Photocentric

Kategoria: filaments4U Materiały do druku 3D 11 sie 2021

Firma Photocentric, innowator branży żywic fotopolimerowych oraz prekursor metod druku 3D bazujących na wykorzystaniu ekranów LCD, ogłosiła wprowadzenie do oferty nowej żywicy specjalistycznej Draft. Materiał ten przeznaczony jest dla technologii Daylight i przystosowano go do pracy z wielkogabarytową drukarką 3D Liquid Crystal Magna.

Żywica Daylight Magna Draft jest najszybszą żywicą do druku 3D od Photocentric. Zaprojektowano ją, aby umożliwić drukowanie szczegółowych i dużych części w krótkim czasie, w celu szybkiego prototypowania, a nawet produkcji niskoseryjnej. Żywica pozwala na druk na warstwie o wysokości 350 μm przy krótkich czasach utwardzania, radykalnie skracając cały proces druku 3D. Wykonane z niej części końcowe wykazują bardzo wysoką wytrzymałość, porównywalną do PA 6, nie dają się łatwo zginać oraz ściskać i wykazują minimalny skurcz.

Nowoopracowany przez Photocentric materiał przystosowany jest do urządzeń pracujących w technologii Daylight, szczególnie do Liquid Crystal Magna, która jest flagową wielkoformatową drukarką 3D tego producenta. Obszar roboczy na poziomie 510 x 280 x 350 mm sprawia, że maszyna ta znajduje zastosowanie w bardzo szerokim zakresie branż, w tym przemysłowych, gdzie żywice przystosowane do szybkiego prototypowania są bardzo często wykorzystywane.

Przykładowe zastosowania:

  • produkcja prototypów,
  • produkcja niskoseryjna,
  • tworzenie form do odlewów metodą wosku traconego.

Najważniejsze cechy:

  • krótki czas naświetlania,
  • idealna do szybkiego prototypowania,
  • wysoka szczegółowość.

Właściwości wytrzymałościowe:

Dystrybutorem produktów Photocentric na rynku polskim jest marka filaments4U.

O autorze
Informacje Prasowe

3D w praktyce to czołowy serwis poświęcony technologiom przyrostowym w Polsce, działający nieprzerwanie od 2014 roku.

ARTYKUŁY POWIĄZANE
0 0 votes
Article Rating
Subscribe
Powiadom o
guest
0 komentarzy
Inline Feedbacks
View all comments